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激光直寫的應(yīng)用領(lǐng)域
點(diǎn)擊量：722 日期：2023-08-29 編輯：硅時(shí)代
激光直寫光刻(laser direct write lithography，LDWL)作為一種無掩模光刻技術(shù)，是利用強(qiáng)度可變的激光束對(duì)基片表面的抗蝕材料實(shí)施變劑量曝光，顯影后在抗蝕層表面形成所要求的圖形。
無掩模光刻技術(shù),即直接寫入技術(shù),主要有電子束直寫和激光直寫兩種。這種光刻技術(shù)無需掩模制作、圖形光刻轉(zhuǎn)移、套刻、多次蝕刻等過程,減少了誤差來源,提高了器件的制作效率與精度。另外，直寫技術(shù)因?yàn)闊o需掩模制作，所以節(jié)省了掩模制作的費(fèi)用。掩模成本在整個(gè)光刻成本中所占的份額是比較大的，就目前形勢(shì)來看，掩模的價(jià)格是呈直線上升態(tài)勢(shì)。由于掩模版價(jià)格日益高漲，開發(fā)無掩模的光刻技術(shù)成為一種潮流，它是降低掩模不斷飛升的一個(gè)潛在解決方案，是一種有前途的光刻技術(shù)。
而激光直寫技術(shù)相對(duì)于電子束直寫，由于更為廉價(jià)而得到發(fā)展。其工作機(jī)理和電子束直寫機(jī)理類似。通過點(diǎn)曝光或連續(xù)曝光的方式，在感光層上直接產(chǎn)生圖形。具體來說，就是利用聚焦的激光光束，由計(jì)算機(jī)控制聲光調(diào)制器、平臺(tái)或轉(zhuǎn)臺(tái)的運(yùn)動(dòng)，在光刻膠上進(jìn)行曝光，產(chǎn)生預(yù)定圖形，經(jīng)過顯影得到所需要的圖像。
激光直寫曝光機(jī)市場(chǎng)在近年來呈現(xiàn)出快速增長(zhǎng)的趨勢(shì)。主要原因是隨著電子信息技術(shù)的不斷發(fā)展，對(duì)高精度、高速度、高效率的生產(chǎn)設(shè)備需求不斷增加，而激光直寫曝光機(jī)正好滿足了這些需求。
目前，激光直寫曝光機(jī)市場(chǎng)主要分為兩個(gè)領(lǐng)域：半導(dǎo)體制造和PCB制造。在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，激光直寫曝光機(jī)主要用于芯片制造中的光刻工藝，具有高精度、高速度、高穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)，可以實(shí)現(xiàn)微米級(jí)別的曝光精度，因此在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域市場(chǎng)需求較大。在PCB制造領(lǐng)域，激光直寫曝光機(jī)主要用于制作高密度、高精度的電路板，可以實(shí)現(xiàn)高速度、高精度的曝光，因此在PCB制造領(lǐng)域市場(chǎng)需求也較大。
除了半導(dǎo)體制造和PCB制造領(lǐng)域，激光直寫曝光機(jī)還可以應(yīng)用于3D打印、光刻制造、微納加工等領(lǐng)域，這些領(lǐng)域的市場(chǎng)需求也在逐漸增加。
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